在本文中,我們將討論與化學(xué)應(yīng)用和化學(xué)工業(yè)相關(guān)的介質(zhì)研磨技術(shù)
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有許多不同類型的研磨設(shè)備
,如球研磨設(shè)備,更適合原材料的粗磨處理。這些工廠使用的“大”介質(zhì)的尺寸從20毫米不等,并且可以生產(chǎn)大約10微米到網(wǎng)目尺寸的材料。其他研磨設(shè)備,如Attritors(立式攪拌磨),更適合“中等”粒度的顆粒。使用3至10mm的磨介可生產(chǎn)出粒度約為1至10微米的材料。研磨技術(shù)的.新進(jìn)展是針對超細(xì)粒度亞微米或納米級的應(yīng)用。這些高性能小磨介砂研磨設(shè)備通過使用0.1至1mm大小的磨介生產(chǎn)亞微米級的粒度。
..臺小型
、中型磨粉機(jī)是20世紀(jì)50年代杜邦公司開發(fā)的立式砂研磨設(shè)備。從那時(shí)起,出現(xiàn)了新的研磨技術(shù),從球研磨設(shè)備到臥式磨如前所述
,不同類型的研磨設(shè)備適用于不同的加工要求。在選擇研磨設(shè)備類型和磨介尺寸時(shí),需要考慮幾個(gè)重要因素。一般來說,進(jìn)料越粗,研磨介質(zhì)就應(yīng)該越大、越致密。由于可能產(chǎn)生更大的沖擊力,因此需要更大、更重的介質(zhì)。還應(yīng)考慮.終粒徑,所需的末端粒度越細(xì),研磨介質(zhì)應(yīng)越小。由于可用于進(jìn)行精細(xì)研磨的表面積較大,因此小磨介對更細(xì)的端部顆粒尺寸更有效。
一些高效的生產(chǎn)工藝是利用、結(jié)合兩種研磨技術(shù)的優(yōu)勢進(jìn)行互補(bǔ)。高效研磨的一個(gè)例子是使用諸如Attritor(立式攪拌磨)之類的研磨設(shè)備進(jìn)行..階段研磨
,.后的超細(xì)研磨使用小磨介砂研磨設(shè)備進(jìn)行的。這兩個(gè)階段的過程.大限度地提高了兩種研磨技術(shù)的效率。
研磨設(shè)備和磨介選擇過程中需要考慮的另一個(gè)重要方面是與物料接觸的結(jié)構(gòu)材料
。加工高純或高活性材料時(shí),通常需要研磨設(shè)備接觸部件盡可能純度一致、惰性和無污染。在這些情況下,研磨設(shè)備接觸零件和研磨介質(zhì)可以由各種類型的不銹鋼或陶瓷制成。一些研磨設(shè)備部件也可以內(nèi)襯或涂覆不同類型的聚合物。
立式循環(huán)研磨設(shè)備—Q系列
近年來
,許多涂料、氮化硅、氧化鋁等材料供應(yīng)商將他們的注意力集中在一種“新”類型的“高速循環(huán)研磨”上,以實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的分散性。實(shí)際上,這種“高速循環(huán)研磨”并不是一種“新”技術(shù)。1976年,Andrew Szegvari博士(UNION PROCESS的創(chuàng)始人)獲得了這種快速循環(huán)研磨的..Q系列 Attritor(立式攪拌磨)將研磨主機(jī)與配備了高速分散器和低速掛壁攪拌的大型預(yù)混缸結(jié)合在一起
GT是小磨介砂磨機(jī)家族的.新成員。它可將部分物料研磨到100nm以下甚至更細(xì)
與Deltamill一樣
,研磨齒可在整個(gè)研磨腔中提供定向均勻的磨介分布。研磨設(shè)備可用于連續(xù)和循環(huán)模式。所有研磨設(shè)備都可以使用無金屬部件生產(chǎn),用于某些陶瓷應(yīng)用,這可能是一個(gè)考慮因素。GT系列砂磨機(jī)采用研磨缸四周環(huán)形分離器設(shè)計(jì)
。它由一系列圓環(huán)組成,環(huán)之間有適當(dāng)尺寸的墊片,這種新設(shè)計(jì)消除了分離器堵塞。由于這一位于研磨缸末端的堅(jiān)固且大的開放式篩網(wǎng)區(qū)域
,與其他研磨設(shè)備相比,維護(hù)和清潔要容易得多。將蓋子從研磨缸端部拉開是一件簡單的事情以上四川研磨設(shè)備分享就到這里